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장비 및 시설 기본정보

RF Sputter

장비 개요

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명 ZEUS
장비번호
제작사 A-Tech
모델명 특주
장비사양
취득일자 2003-05-15
취득금액

보유기관 및 이용정보

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명 수원대학교
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드
표준분류명
시설장비 설명 Si SiO2 ITO등 비금속 소재 박막을 증착분위기 증착속도 증착온도등의 변수에 따라 증착하는 RF 전용 박막증착 장비이다.Source : RF 0.6kW (1 set) Main pressure : 7 ×10-7 torr Process pressure : 3×10-3 torr Target size : 3 Deposition temperature : 400 ℃ max. rate : 3Å/sec Chamber : Main & Loadlock Control type : Auto/PC Programmable Substrate : Max. 6 (from piece)
장비이미지코드 http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/itep200710/.thumb/1153918803_1.jpg
장비위치주소 경기 화성시 봉담읍 와우리 수원대학교 산2-2번지 수원대학교 고운첨단과학기술연구원 6층 604호
NFEC 등록번호 NFEC-2007-10-019299
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0003895
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, 주제어 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
주제어 (키워드)