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장비 및 시설 기본정보
전자빔 증착전원 및 부대장치 제작
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 대기하이텍 |
| 모델명 | E-beam evaporation system |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2014-10-16 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국원자력연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C504 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 초고온가스로 공정 열 이용 고온기기 내 부식 표면처리용 전자빔 증착 시스템 중 전자빔 증착공정에 필요한 전원 및 부대장치에 관한것으로 전원이외에 ebeam source 및 고진공 gate valve를 포함하며 500x500 mm 이상의 면적에 균일한 전자빔 증착을 위한것이다 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201411/20141114133546120.jpeg |
| 장비위치주소 | 한국원자력연구원 방사선응용연구동 516호 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2014-11-193489 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0046259 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |