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장비

4타켓 스퍼터

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보유기관명	한국과학기술원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C506
표준분류명
시설장비 설명	반도체 분야에서 박막증착공정을 위해 널리 사용되어지고 있는 장비이며 장비는 항시 chamber 내의 진공을 십의 마이너스칠승 이하로 유지하고 있는 고진공을 뽑을 수 있는 장비임. 진공을 뽑기위한 chamber 와 박막을 증착시키기위한 sputter gun, 박막을 쌓기 위해 substrate 으로 구성. 또한 고진공 chamber안에 sample이 들어가기전 load lock chamber에서 1차적인 진공을 뽑을수 있는 장비로 구성. 현재 십의 마이너스칠승이하의 진공을 유지하며 여러 박막을 층착하여 실험을 진행하고있음 load lock chamber 에서 sample 로딩후 sputter chamber로 이동. 이후 각 sputter gun 에 장착되어있는 금속및 비금속물질을 substrate에 증착시킴.
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201501/20150106145824239.jpg
장비위치주소	한국과학기술원 응용공학동(W1-1)
NFEC 등록번호	NFEC-2015-01-195451
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0048042
첨부파일