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광전자 분광기

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보유기관명	한국과학기술연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	B521
표준분류명
시설장비 설명	XPS System은 고체 시료의 표면, 계면 및 다층막의 정성 및 정량 분석을 하는 표면분석 장비임 주요 장비는 1. Fully automated XPS system 여러 시료를 빠른 시간 내에 분석하고, 분석한 data 의 신뢰성을 확보하기 위해서는 장비의 자동화가 되어 있음. 2. Depth Profile : 모든 종류의 시료에서 다층 박막의 깊이 분포 별 정보를 얻는 것은 매우 중요합니다. 양질의 depth profile data를 얻기 위해서는 ion gun의 성능 및 기본적인 시스템의 구성이 되어있음, 특히 polymer 등 유기물을 sputtering 할 때는 Low voltage ( ~ 500eV 이하) 에서 안정적으로 작동되는 Ion gun 있음 Ion gun (EX06) : Beam energy: 100 eV to 4 keV, Maximum Ar beam current : >4 μA at 3 keV
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201603/20160331112216364.jpg
장비위치주소	한국과학기술연구원 연구동(L4)
NFEC 등록번호	NFEC-2016-04-208815
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0060535
첨부파일