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장비
장비 및 시설 기본정보
아이온 밀링 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 브이에스아이(Vsi) |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2005-05-24 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술원 전기및전자공학과 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 고진공 이온빔 식각 및 증작장치(이하 장비라 칭함)는 Ion beam을 이용하여 시료의 표면을 식각하거나 다양한 종류의 금속막을 제작하기 위하여 사용합니다. 고진공 Chamber는 전면 Door open/close 방식의 Barrel 형태로 설계되어 기판의 Loading/Unloading 및 Chamber 내부세척, 부품교환이 용이한 잇점이 있습니다. 또한 기판을 액체헬륨온도로 냉각하여 실험할 수 있게 Helium Cryostat를 장착할 수 있도록 하여 Radiation에 의한 열 손실을 최소화할 수 있도록 Sheath를 설치하였습니다. 진공배기는 Oil bake stream을 최소화하고 배기 시간을 단축하기 위하여 터보펌프를 사용하고 있으며 증착원으로는 삼각면에 각각 설치할 수 있는 Target를 사용하여 다양한 물질을 증착할 수 있도록 하였습니다. 증착막의 두께는 수정진동자를 사용하여 측정할 수 있도록 Port가 설치되어 있습니다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201407/2014070814111393.png |
| 장비위치주소 | 한국과학기술원 나노종합팹센터 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2014-07-189884 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-KAIST_EE-00011 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |