PECVD(SLR730) 장비셋업
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | OERLIKON |
모델명 | SLR-730 |
장비사양 | |
취득일자 | 2012-11-23 |
취득금액 |
보유기관명 | 광주과학기술원 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | C507 |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | SLR-730 System은 PECVD장비로써 GaN기반 LED제작 과정에서 leakage current가 etching된 표면을 따라 흐르는 것을 막기 위한 passivation layer로 사용되는 절연물질로 SiO2와 Si3N4를 증착하는 것을 목적으로 하는 LED Chip 제조 과정에 사용되는 공정장비임. 또한 LED chip과 chip의 절연공정과 n-전극과 p-전극의 절열층으로 사용됨. 특히 최근 PECVD로 증착되는 SiO2와 Si3N4는 굴절율의 차이를 이용하여 광추출구조에 적용할 수 있으며 CBL (Current Block Layer) 물질로도 사용되고 있을만큼 LED Chip제작 공정 중 다양한 분야에 활용되는 절연막 증착에 사용되는 장비임. |
장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201212/20121204105020.JPG |
장비위치주소 | 광주과학기술원 신재생에너지연구소 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2012-12-172903 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0036032 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |