| 시설장비 설명 |
*특징 KrF excimer 레이저 빔을 평탄화하는 homogenizing optical system 일반적인 레이저 빔은 중간 부분으로 갈수록 에너지가 집중되는 가우시안 분포를 가지기 때문에 박막에 조사하여 처리하기에는 매우 불리하다. 본 장비는 이러한 레이저 빔을 광학 기구를 이용하여 평탄한 레이저 빔 형상을 만들어 균일한 레이저 처리 및 조사가 가능하게 하는 광학 시스템이다. *구성 Beam homogenizing optical system (Micro lens array, XY translating optical mount, Rotating stage, Lens holders and supporting mecnanics) Imaging lens assembly (lens holder and supporting mechanics) *용도 -레이저 열처리 (laser annealing), 레이저 전사 (laser lift-off) *사용 예 -PZT 및 BST 박막의 레이저 열처리 (excimer laser annealing) -레이저 전사(laser lift-off)를 이용한 압전 유연 소자 제작 |
