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장비 및 시설 기본정보
Mask 제작용 Track/Etch
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 티에스티아이 |
| 모델명 | Mask 제작용 Track/Etch |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2005-04-07 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 서울대학교 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 4 ~ 7 inch Mask Etchant : CR-7 Speed range : 10 ~3000 rpm Type : Spin dry etcher (wet) Mask 제작용 Cr Etch |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/itep200710/.thumb/54B0332A6CCABAD64925703C002ABBB5.jpg |
| 장비위치주소 | 서울 관악구 대학동 서울대학교 산 56-1 서울대학교 104동 (반도체공동연구소) 1층 보관창고 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2007-10-007907 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0001602 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |