장비 | 기업공감원스톱서비스

장비

급속열처리장비

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명	대구경북과학기술원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C502
표준분류명
시설장비 설명	○ 본 장비는 반도체 소자, MEMS, 센서 제작공정 중 이온주입 후(Post ion implantation) 이온주입손상 어닐, 불순물 활성화를 위해 적정한 열에너지 소스에서 나오는 복사 광선(Infrared radiation)을 이용하여 100℃/sec정도의 급속열처리를 할 수 있는 기본적인 반도체 공정장비임. ○ 급속 열처리 공정의 또다른 응용분야는 단결정과 다결정 실리콘의 불순물 주입 후의 anneal, 단결정과 다결정 실리콘의 oxidation, silicide의 형성과 anneal, PSG와 BPSG층의 reflow 및 contact형성 등의 거의 모든 열처리 과정에 사용될 수 있음.
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201610/2016100718559437.png
장비위치주소	대구경북과학기술원 중앙기기센터 205 소자클린룸
NFEC 등록번호	NFEC-2016-10-212155
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0062318
첨부파일