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장비 및 시설 기본정보
습식세정장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 동훈테크 |
| 모델명 | 모델명없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2009-07-08 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 울산과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C502 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 본 장비는 6“ Wafer 를 Chemical을 이용하여 WET공정을 진행하고 DI.Water로서 Cleanning한 후 건조(DRY)하는 Wafer 처리장비이다. 인체에 유해한 독성 물질들을 사용함으로 사용상의 편리성 및 안전성이 확보 되어야 하며 SPM BATHSC-1 BATHDHF BATHQDR BATH N2 및 DI GUN DRAIN UNIT등으로 구성된다. MEMS등의 기본 chip 제작 보다 더욱 청정도가 요구되는 장치로써 가열 및 Auto-cleaning program이 요구되며 각 종 chemical 및 열원 장치가 사용 되어 배기 시스템이 적용되어 있다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201209/20120927182421.jpg |
| 장비위치주소 | 울산과학기술대학교 자연과학관 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-01-174061 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0035156 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |