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리프트오프공정스테이션

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보유기관명	한국광기술원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C520
표준분류명
시설장비 설명	금속 전극의 Lift-off 공정 장치를 위한 장비로서 웨이퍼상에 메탈이 증착되면 어떤 패턴대로 그 메탈중에 필요한 부분과 필요없는 부분을 현상하기 위한 장치임. 유기물의 배기가 중용함ㅇ적용가능 기판크기 : 2인치 4인치 Wafer 조각 ㅇQDR Bath - Shower N2 bubble Over Flow Quick Drain 기능 - 수동 및 자동 모드 ㅇFinal Bath - N2 bubble Over Flow 기능 - 수동 및 자동 모드 ㅇUltra-sonic Bath : 182kHz 초음파 세정 ㅇStirring Hot Plate - 온도 범위 : ～ 400℃ - 교반속도 : 60 ～ 1200rpm ㅇD.I. water gun N2 gun Acetone gun ㅇMetal Particle suction 기능LD/PD/LED의 칩공정을 위한 전과정의 마지막 공정임. 대부분 일반적인 wet station에서 사용하지만 메탈을 벗긴후 그 찌꺼기를 처리하기 위한 전용 장비인 metal lift off wet station이 필요함
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110125150615.jpg
장비위치주소	광주 북구 월출동 971-35 한국광기술원 실험동 1층 메인클린룸 wet room
NFEC 등록번호	NFEC-2010-12-126435
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0019869
첨부파일

기업조회