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장비 및 시설 기본정보
마스크 얼라이너
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | |
| 모델명 | |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 1998-06-30 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술원 전기및전자공학과 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 화합물 반도체 공정중 마스크 얼라이너(Mask Aligner)는 포토리소그래피(Photolithograpy)를 통해 원하는 상을 입히는 과정에 사용되는 장비임. 컨택 마스크 얼라이너방식을 사용하고 있음. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/ShKBDUIy8QjZdoo4TTd0_w600.jpg |
| 장비위치주소 | |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2016-12-235424 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-KAIST_EE-00010 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |