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장비 및 시설 기본정보
RF 중성빔 소스 장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 에스엔텍 |
| 모델명 | RF Neutral Beam |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2006-06-20 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 가천대학교 글로벌캠퍼스 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C504 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 특징 진공 챔버내에서 기판위에 산화물이나 질화물의 박막을 증착하기 위한 소스로서 사용되는 RF Neutral Beam Source System구성 및 성능 - Beam Vol. & Amp: 50~1300ev 50~300m - Beam Diameter: 10cm - Insert & Reactive Gas Available - Selective Ion Beam or Neutral Beam활용분야 진공 중에서 산화물 질화물 박막 증착 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/200712/.thumb/20071227154832.JPG |
| 장비위치주소 | 경기 성남시 수정구 복정동 산 65-2 가천대학교 글로벌캠퍼스 새롬관 1층 113 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2007-12-049806 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0007775 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |