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마이크로파 표면처리기

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보유기관명	한국생산기술연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C207
표준분류명
시설장비 설명	ㅇ 원리 및 특징 1.고주파(2.45GHz) 를사용한 Plasma 생성 2. 진공상태에서의 시료 처리 3. 무전극 플라즈마 발생 시스템 4. 시료의 균일한 처리를 위한 회전 테이블 사용 5. 시료의 물리화학적 손상 방지를 위한 무 자외선 시스템 6. 각종 Gas 사용을 위한 4개의 가스입력 단자 7. 100개의 공정조건 프로그래밍ㅇ 구성 및 성능 1. Process chamber - Material:Aluminum - Volume:64 liters - Inner Dimension: 400 x 400 x 400 mm (H x W x D) No RF-electrodes inside chamber 2. Vacuum system - Vacuum connection: DN 63 ISO K - Ultimate pressure: Approx. 2 x 10-2 mbarㅇ 사용예 및 활용분야 시료의 표면 처리 장비로써 표면의 친수성 및 소수성화 등의 계질상태 변경 산화막 제거를 목적으로 한 인쇄기판의 표면처리 언더필 성능 향상 및 접합면의 건식 세정등의 공정에 쓰이며 접착소재 개발과 공정적용 연구에 활용
장비이미지코드	http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201109/.thumb/20110905110102.jpg
장비위치주소	인천광역시 연수구 송도동 7-47 PP1동 2039호
NFEC 등록번호	NFEC-2009-01-069277
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0012480
첨부파일

기업조회