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장비 및 시설 기본정보
193 nm 엑시머 레이저
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Coherent |
| 모델명 | COMPexPro110 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2016-11-30 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국기초과학지원연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | A410 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 193 nm excimer laser는 나노미터급 미세표면 검사기용 진공자외선 레이저 광원으로 주요 구성요소는 다음과 같음. - Power supply & Main controller - Integrated, Energy Monitor - Water cooling system - Hand-held key-pad - Software: Operating SW 장비의 주요 특성은 다음과 같음 - The laser includes ArF excimer gas module. - The emission wavelength is 193 nm. - The cooling system is water-cooled. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201612/20161208112947118.jpg |
| 장비위치주소 | 한국기초과학지원연구원 연구2동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2016-12-213388 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0063006 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |