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장비 및 시설 기본정보
초음파세정시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 씨에스와이 |
| 모델명 | OWT-2G-4P |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2011-10-20 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | (주)에이티에스엔지니어링 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C502 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 본 장치는 초음파 BATH 및 HEAT BATH를 이용하여 실험하는 유리기판의 유기물 등 이물질을 제거 세정하며 PR을 DEVELOP하는 장치이다.몸체 - 제어장치등 각종장치들이 설치되어 있음. CHEMICAL 초음파 BATH - ACETONE 용액을 이용하여 세정하는 PORT CHEMICAL 초음파 BATH - METHANOL 용액을 이용하여 세정하는 PORT CHEMICAL HEATING BATH - SC-1용액등을 가열하여 세정하는 PORT DEVELOP BATH - 아세톤이나 용액을 이용하여 PR을 DEVELOP하는 PORT 위 4개 PORT들의 각종제어장치를 제어하는 장치판넬과 DY용액을 공급하며 배기가스를 배출하는 구조로 구성되어 있음. 370-470의 유리기판을 동시에 최대 4장정도를 세정할수 있음.유기기판의 이물을 제거하기 위하여 각종약품들에서 10~20여분 히팅또는 초음파로 세정을 하며 DY용액으로 약품을 씻어내고 N2건으로 약품을 말리며 각 세정PORT를 번갈아가며 유리기판의 이물을 세정하는 공정에 이용. 아세톤이나 DEVELOP용액을 이용하여 다음공정에서 진행된 시험기판의 PR을 용해하여 DY로 세정 건조하는 DEVELOP공정에 이용 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201211/.thumb/20121107093801.jpg |
| 장비위치주소 | 경기 성남시 분당구 야탑동 68번지 전자부품연구원 창업동 3층 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-01-174109 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0035270 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |