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장비 및 시설 기본정보
HF혼합가스 대기압 플라즈마반응기/제어시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 에스이플라즈마 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2010-08-19 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 재료연구소 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | 특징 유리의 표면에 나노형상을 만들기 위해 HF가스를 이용해 식각을 하며 식각 속도를 높이기 위해 대기업에서 플라즈마를 발생시켜 처리하게 된다. HF가스는 반응물인 H2O와 함께 존재할 때 매우 부식성이 높아지기 때문에 챔버 내에는 내부식 처리가 있어야 한다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201008/20100823105255.JPG |
| 장비위치주소 | 재료연구소 연구3동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2010-08-082863 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0018877 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |