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장비 및 시설 기본정보
이온빔 증착장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | (주)인포비온 |
| 모델명 | 07-03S-IBD |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2008-03-13 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국표준과학연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C504 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 특징 이온빔을 이용한 박막 물질 증착 구성및성능 이온gun 타겟물질4inch 활용분야 W SiNiTa2O5 targets Description 1)Aiming for the grinding technology development of precision molded ion-beam it is applicable for the uniformity ion-beam grinding processing development and surface mold Process. 2) Manufacture the production device and develop mass-production for the large-sized ion beam Specification 1) Establish grinding process for the ideal ion-beam depends on the surface roughness Xe+ 15kV 150 μ A/cm2 60℃ 2 hours -> decreased to 200~ 300nm 2) Ion-beam surface grinding around 200~300nm Xe+ 5kV 150 μ A/cm2 45℃ 4 hours -> decreased to 100nm 3) Ion-beam surface grinding around 100nm Xe+ 5kV 150 μ A/cm2 60℃ 1 hour -> decrea Practical applications of the product 1) Processing substitution of the general mechanical polishing such as the general mold and the optical instrument mold (back light unit mobile case and etc.) 2) STEMPER such as general mold and the pattern within the optical instrument mold (general -> optical science in |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201309/20130903142531642.jpg |
| 장비위치주소 | 한국표준과학연구원 신소재동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2009-06-071395 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0012930 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |