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장비 및 시설 기본정보
플라즈마를 이용한 화학적 증착 장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Plasma Therm |
| 모델명 | SLR-730 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 1998-02-17 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국전자통신연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C507 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 본 장비는 저온에서 플라즈마 가스를 이용하여 반도체 및 기타 기판에 SiN 및 SiO2 등과 같은 유전체 박막을 성장시키는 장비로 조각의 시료에서 4인치 크기의 웨이퍼 사이즈까지 공정이 가능하다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201503/20150316172159396.JPG |
| 장비위치주소 | 한국전자통신연구원 4동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-03-200159 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-ETRI-00006 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |