- HOME
- 홈페이지 이용안내
장비 및 시설 기본정보
스퍼터링 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 코리아바큠테크(Korea Va |
| 모델명 | KVS-2000 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2013-05-27 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 서울대학교 산학협력단 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C506 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | -. 금속 및 산화물 진공 증착용 장비 -. 증착시편크기 : 조각시편부터 4 인치 -. 시편가열온도 및 균일도 : ± 5도 이내 @ 1000도 -. 시편증착균일도 : ± 3% 이내 -. 진공도달능력 : 2 x 10E-7 torr @ 1시간이내 -. 장비제어방식 : 인간친화적그래픽구현 PLC 터치패널(자동) -. 장비안전 : 진공냉각수압축공기와 시스템 간 안전 연동 방식· 공정챔버 · 진공펌핑장치 · 시편 가열과 회전 장치 · 진공측정계 · 원통형 마그네트론 스퍼터링 소스 · 가스공급장치 · 라디오주파수 전원장치 . 직류전원장치 · 자동공정압력제어장치 · 프레임과 운용제어장치 · 기판 장착 후 스퍼터링 기법으로 박막을 증착하는 장비로서 수백에서 수천 나노미터 두께를 가지는 Oxide 및 Metal 박막의 증착이 가능하고 Glass Metal Foil 등 다양한 기판 적용이 가능하다. 4개의 RF 스퍼터링 건으로 구성되어 있어 동시에 4 가지 물질의 혼합 조성이 가능하며 추가 1개의 DC power supply 장치를 보유하고 있어서 DC 조건에서의 증착도 가능하다.금속 박막 증착 · DC power supply : Ni Cu Pt 등 다양한 보유 타겟 이용한 증착 가능 · RF power supply : Ni Cu Pt 등 다양한 보유 타겟 이용한 증착 가능 - 산화물 박막 증착 · DC power supply : 산소 분위기에서 금속 타겟의 reactive sputtering으로 증착 가능 · RF power supply : 산소 분위기에서 금속 타겟의 reactive sputtering으로 증착 가능 금속산화물 타겟을 이용한 직접 산화박막 증착 가능 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201306/.thumb/201306101774648.jpg |
| 장비위치주소 | 서울 관악구 대학동 서울대학교 산 56-1 서울대학교 311동 (화학공정신기술연구소) 2층 202호 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-06-179767 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0039889 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |