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장비 및 시설 기본정보
현상기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 에스이테크 |
| 모델명 | SE-PTDVS |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2005-03-18 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국광기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C502 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 웨이퍼 표면에 패턴을 만들기위하여 mask aligner 장비를 이용하여 UV 조사후 현생액을 이용하여 감광액을 제거 하기 위한장비로 패턴을 균일한 현상을 해주는 전문 장비적용 Wafer 크기 : 조각 ～ 4인치(6인치이상 별도 비이커 사용가능) Main Body : PVC 1200X900X2100(H) Chemical Bath : SUS 116X116X146(H) QDR Bath : SUS 116X116X146(H) - QDR Drain (Auto 밸브 Drain 밸브) DIW Shower Final Rince Bath : 무정전 투명 PVC DIW Over Flow Goose Neck : Plate Foot Switch N2 Gun DIW Gun Manual Clean Plate : 6X500mL Beaker 폐액구 Touch screen 제어 방식 적용 Wafer 크기 : 조각 ～ 4인치(6인치이상 별도 비이커 사용가능) Main Body : PVC 1200X900X2100(H) Chemical Bath : SUS 116X116X146(H) QDR Bath : SUS 116X116X146(H) - QDR Drain (Auto 밸브 Drain 밸브) DIW Shower Final Rince Bath : 무정전 투명 PVC DIW Over Flow Goose Neck : Plate Foot Switch N2 Gun DIW Gun Manual Clean Plate : 6X500mL Beaker 폐액구 Touch screen 제어 방식 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110124155823_9722.jpg |
| 장비위치주소 | 광주 북구 월출동 971-35 한국광기술원 실험동 1층 메인클린룸/photo room |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2010-12-120333 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0019523 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |