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장비 및 시설 기본정보
나노임프린트
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 엔엔디 |
| 모델명 | NANOSIS 830 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2008-04-04 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국광기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C519 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 1. Features 1. Case ① Size (W*L*H) = 1230 * 910 * 1360 mm ② Weight = 500 kg 2. General ① Temperature range : up to 250℃ ② Heating rate : 70C/min ③ Pressure range : 1 to 50 bar ④ Substrate handling : up to 8 inch ⑤ Imprinting speed : 7min/wafer (process dependant) 3. UV Imprint (Spot UV source) ① Lamp : 200 W mercury-Xenon lamp ② Lamp life time : over 3000 hr ③ UV intensity : 4000 mW/cm2 4. Vacuum Pump (Mechanical pump) ① Ultimate vacuum : 6.7*10-2 Pa ② Pumping speed : 60 L/min 5. Others ① Heater : 2000 W 5 kg ② System control : PLC controlled automatic ③ Imprinting procedure - UV - Thermoplastic - Thermosetㅇ적용가능 기판크기 : 10mmx10mm 조각～4인치 Wafer ㅇ사용가능 마스크 크기 : 4인치×4인치 5인치×5인치 6인치×6인치 ㅇ노출광원 : Hg-Lamp 500W？자외선 (UV) 파장대 : 365～405㎚ ㅇ노광형태 : Proximity Soft/Hard contact Soft Vacuum contact Vacuum contact ㅇ노광간격 : 1～100㎛ 간격 조절 해상도 : 2.5㎛ ㅇ노광시간 : 0.1～999/초 0.1초 간격 ㅇ분 해 능 - Proximity in 20㎛ gap : 3㎛ - Soft / Hard contact : 2㎛ - Vacuum contact : 0.6～0.8㎛ ㅇ정렬(Alignment) 방법 및 정확도 - 윗면정렬 (Top Side Alignment) : 0.5㎛ - 뒷면정렬？(Back side Alignment) : 1㎛소자패턴형성을 위한 장치로 몰드라는 장치에웨이퍼 위의 포토레지스트를 고압및 고온으로 압착하여 패턴을 형성 시킴 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201310/.thumb/20131010113436649.jpg |
| 장비위치주소 | 광주 북구 월출동 971-35 한국광기술원 실험동 1층 메인클린룸 photo |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-01-139099 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0023464 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |