마스크 얼라이너
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | Suss Microtec |
모델명 | MA8 |
장비사양 | |
취득일자 | 2008-12-12 |
취득금액 |
보유기관명 | 구미전자정보기술원 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | C501 |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | * 특징 - 다양한 공정에 응용 가능한 범용 Mask aligner - Modular 디자인 - 정밀한 포커싱을 위한 넓은 초점 조정 범위 - Top side Alignment 및 Bottom side Alignment - IR alignment - Bond Aligner 로 사용이 가능함 - 최대 substrate 크기: 6“x6“ - UV 400 UV300 UV 250 UV 200(Excimer laser) - Substrate 수평 최적화 시스템 - 높은 공정 수율과 마스크 보호를 위한 정확하고 정밀한 gap setting - 셋업 시간을 줄이고 공정의 재연성을 향상시키기 위한 파라미터 및 프로그램 저장 가능* 장비 성능 1. Substrate : 8inch 2. Resolution : 5nm 3. Auto precision controll* 용도 설명 - 소자공정 중 패터닝 공정 수행 - 미세패턴소자 구현을 위한 패터닝 공정 수행 - 반도체 소자 및 각종 전기소자 제작을 위한 패터닝 공정 수행 |
장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201309/.thumb/20130903223024765.jpg |
장비위치주소 | 경북 구미시 산동면 봉산리 구미국가산업단지 제4단지 13블럭 1-1 구미전자정보기술원 진흥관 6층 612 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2008-09-068293 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0011218 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |