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장비 및 시설 기본정보
화학 증착 방식 튜브형 퍼니스
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 에이엔티 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2015-09-15 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국기계연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C601 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 위 장비는 박막을 증착하는 방식의 퍼니스임. CVD는 기체상의 성분들이 substrate 표면에서 화학적으로 반응하여 안정한 고체 박막을 형성하는 박막증착법임. CVD는 증착이 일어나는 공간내를 진공상태로 만들어 대기중에 있는 공기로 인해 생길수 있는 부산물의 밀도를 낮추고 증착속도 등을 원활히 하는 방식임. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201510/201510051125130.jpg |
| 장비위치주소 | 한국기계연구원 연구4동 114호 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-10-205221 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0058755 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |