| 보유기관명 |
대구경북과학기술원 |
| 보유기관코드 |
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| 활용범위 |
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| 활용상태 |
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| 표준코드 |
C501 |
| 표준분류명 |
시험 |
| 시설장비 설명 |
- Electron Beam Lithography(EBL) refers to a lithographic process that uses a focused beam of electrons to form the circuit patterns needed for material deposition on (or removal from) the wafer in contrast with optical lithography which uses light |
| 장비이미지코드 |
http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/202002/2020021014233838.jpg |
| 장비위치주소 |
대구경북과학기술원 중앙기기센터 205 소자클린룸 |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2013-04-177907 |
| 예약방법 |
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| 카타로그 URL |
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| 메뉴얼 URL |
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| 원문 URL |
http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201812171121 |
| 첨부파일 |
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