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장비 및 시설 기본정보
고전류 고온 in-situ 전자후방회절산란장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Hitachi |
| 모델명 | S-4300 SE |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2008-05-06 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | A206 |
| 표준분류명 | 시험 |
| 시설장비 설명 | 특징 - 세계 최고 수준 800도급 고온 in-situ EBSD: 나노입자 in-situ 형성 거동분석 가능 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20160919131931_20090420000000043648 NFEC-2009-01-070396.jpg |
| 장비위치주소 | 한국과학기술연구원 연구동(L0) |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2009-01-070396 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0011843 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |