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장비 및 시설 기본정보

얼라이너 시스템

장비 개요

기관명, 장비번호, 제작사, 모델명, 장비사양, 취득일자, 취득금액 순으로 구성된 표입니다.
기관명 ZEUS
장비번호
제작사 EVGroup
모델명 EV620
장비사양
취득일자 2002-05-14
취득금액

보유기관 및 이용정보

보유기관명, 보유기관코드, 활용범위, 활용상태, 표준코드, 표준분류명, 시설장비 설명, 장비이미지코드, 장비위치주소, NFEC 등록번호, 예약방법, 카타로그 URL, 메뉴얼 URL, 원문 URL, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
보유기관명 가천대학교 글로벌캠퍼스
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드
표준분류명
시설장비 설명 특징
전자부품 제작시 사진식각공정에 의한 마이크로 패터닝을 위한 장비로서 포토레지 스트를 도포 후 마스크를 정렬하
여 노광하는 장치이다. 마스크 하부의 포토레지스 트에 대한 노광 유무의 차에의해 현상액에 대한 용해도 차이가 생겨 이를 이용하면 수 마이크론의 패턴을 형성할 수 있다.구성 및 성능
- Lithography system up to 6"
- Wafer thickness: 0.1~10mm
- Alignment accuracy +/- 0.5um top sidenull
장비이미지코드 http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201309/.thumb/20130925132154501.jpg
장비위치주소 경기 성남시 수정구 복정동 산 65-2 가천대학교 글로벌캠퍼스 새롬관 1층 114-2 크린룸
NFEC 등록번호 NFEC-2007-12-050185
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0011616
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, 주제어 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
주제어 (키워드)