| 시설장비 설명 |
(1) 본 장비는 Precursor를 이용하여 기판 상에 vaporization(기상) 방식으로 단분자 박막을 증착하여 기판 표면을 소수표면으로 코팅하기 위한 진공증착 시스템이다. (2) 또한 본 장비는 소수성, 친수성, 그리고 bio-compatible precursors 모두 가능해야 한다. (3) 시스템은 조각 시편부터 8인치 실리콘웨이퍼까지 공정이 가능한 챔버로 구성되어야 함. (4) 사용기판은 Glass, Si, Quartz, Sapphire, Ni 기판을 이용하여 소수표면의 특성을 유지해야 한다. (5) Process chamber 1은 소수성 특성을 가지도록 표면에 단분자막이 증착되도록 구성되어야 한다. (6) 소수성 특성은 100nm이하인 크기의 패턴에 균일한 증착이 가능해야 한다. (7) Process chamber 2는 bio-compatible precursors가 설치되도록 구성되어야 한다. (8) PC를 사용하여 자동 또는 수동 조작이 용이하여야 한다. (9) 본체 및 구성품(부품포함)은 중고품을 사용할 수 없으며, 필히 신품을 사용하여야 한다. |
