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장비 및 시설 기본정보
초미세 패턴 인쇄 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | (주)펨스 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2012-12-21 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국전기연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C519 |
| 표준분류명 | 시험 |
| 시설장비 설명 | 초미세 패턴 인쇄 시스템은 기존의 전기전자소자 패턴형성을 위한 photo-lithography 공정을 대체하여 재료비의 비중을 낮추고, 공간적 제약성을 최소화할수 있는 새로운 공법으로 패턴을 한번에 인쇄하듯이 생산할 수 있는 기술을 위한 공정장비 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201302/201302251607291.JPG |
| 장비위치주소 | 한국전기연구원 제3연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-02-176472 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0053411 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |