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장비 및 시설 기본정보
고성능 산화막식각장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Plasma Therm |
| 모델명 | Versaline LL-ICP |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2017-03-02 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 대구경북과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | 시험 |
| 시설장비 설명 | - 반도체 소자 공정(MOSFET, MEMS, sensor)에 기본적으로 사용되는 장비로서 Oxide, Nitride 박막등에 대하여 고식각률(High etch rate)을 가지며 High aspect ratio etching 공정을 수행할 수 있음 - 5um 이상의 Thick oxide의 etching, SiC, quartz 등의 hard material의 재현성있는 식각(high etch rate, high selectivity, high aspect ratio등) |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201703/2017030315393704.png |
| 장비위치주소 | 대구경북과학기술원 중앙기기FAB지원센터 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2017-03-236478 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201712191573 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |