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장비 및 시설 기본정보
유기금속화학기상증착장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 에스엔텍 |
| 모델명 | MCS5000 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2010-12-22 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 울산과학기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C508 |
| 표준분류명 | 교육 |
| 시설장비 설명 | 상기의 thermal CVD는 심플한 구조로 silicon nano tube 등의 nanostructure를 가지는 물질의 증착을 위하여 국내의 주요 연구기관에서 사용하고 있는 장비입니다. CVD[화학증착]는 Pack cementation Thermal CVD 플라즈마 CVD로 크게 나눌 수 있습니다. CVD의 기본원리는 증착하고자 하는 물질을 함유하는 반응가스를 반응조에 도입하여 가열된 기판 표면에서 열분해를 일으키도록 함으로써 원하는 물질을 증착하는 것입니다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201210/20121016105549.jpg |
| 장비위치주소 | 102동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-02-175736 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0035485 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |