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플라즈마 원자층 증착 반응기

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보유기관명	한국화학연구원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C509
표준분류명
시설장비 설명	특징및 성능 - 원자층 증착 [原子層蒸着 atomic layer deposition] 반도체 제조 공정 중 화학적으로 달라붙는 단원자층의 현상을 이용한 나노 박막 증착 기술. 웨이퍼 표면에서 분자의 흡착과 치환을 번갈아 진행하는데 사용하는 기술장비입니다. - 원자층 두께의 초미세 층간(layer-by-layer) 증착이 가능하고 산화물과 금속 박 막을 최대한 얇게 쌓을 수 있도록하는데 사용하는 기술장비입니다. - 가스의 화학반응으로 형성된 입자들을 웨이퍼 표면에 증착시키는 화학 기상 증착(CVD)보다 낮은 온도(500도 이하)에서 막질을 형성할 수 있도록 하는데 사용하는 기술장비입니다.
장비이미지코드	http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201102/20110207154621.jpg
장비위치주소	한국화학연구원 1연구동
NFEC 등록번호	NFEC-2008-01-055404
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0008373
첨부파일

기업조회