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장비 및 시설 기본정보
광학마스크 공구현미경
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Nikon |
| 모델명 | HMM-800LMU-AF |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2008-04-01 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국광기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | A203 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 특징 - Z-axis measurement range : 200mm - Vertical action range : 200mm - Fine adjustment range : 200mm - Illumination : LED(12V50W) - Table size :300×200mm - Stage Rotation : 360˚ useable - Objective : 1/3/5/10/20/50/100X구성및성능 - 시제품 정밀 측정 회전식 대물렌즈 : 모터로 구동되는 6개의 대물렌즈 시편 Stage : 8"×8" 범용 웨이퍼 홀더 초점구동 - Coarse focus: 5mm/rotation - Fine focus: 100㎛/rotation - Ultra fine focus: 20㎛/rotation - 재현성: ±0.2㎛ 조명 시스템 : Halogen 램프 12V 100W 접안 렌즈 : 10× 광학 시스템 대물 렌즈 - 5×/0.15 BF/DF W.D. 12.2mm - 10×/0.30 BF/DF W.D. 11.0mm - 20×/0.50 BF/DF W.D. 1.27mm - 50×/0.80 BF/DF W.D. 0.5mm - 100×/0.90 BF/DF W.D. 0.3mm - 250×/0.95 BF W.D. 0.3mm 관찰 방법 : Bright/Dark/DIC 관찰활용분야 - 9inch Photo Mask 의 정밀 pattern 측정 - Automatic Focusing 기능을 이용한 Z축 단차 정밀 측정. 웨이퍼 표면의 패턴 관찰을 주목적으로 수행하는 장비로 본 장비는기존의 Optical microscope와 다르게 길이 스테이지 틸트 패턴의깊이등 다양한 기능을 수행할수 있고 배율도 훨씬 크다 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201101/.thumb/20110124143602.jpg |
| 장비위치주소 | 광주 북구 월출동 971-35 한국광기술원 시험생산1동 1층 LED에피(포토실) |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2008-09-067335 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0012440 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |