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장비 및 시설 기본정보
감광제 도포 현상 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 세메스 |
| 모델명 | K-Spin8 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2005-01-01 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 나노종합기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C209 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | Spin Coat & Develop Hot Plate & Cool Plate In line Interface 특징 - 4 spinner(2coat-2develop) - in -line clustering with Krf scanner - chemical filter 탑재 - 도포균일도 : 2%이하 - 시편크기 : 6 8인치 웨이퍼 -온도균일도 ≤0 5℃@150℃ Spin Coat & Develop Hot Plate & Cool Plate In line Interface - 실리콘 웨이퍼에 균일한 감광제 도포 - 감광된 감광제막 현상 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201405/.thumb/20140512105356322.JPG |
| 장비위치주소 | 대전 유성구 어은동 대전 유성구 대학로 291 (어은동 53-3) 카이스트 부설 나노종합기술원 나노종합기술원 1층 FAB |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2007-11-047715 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0007429 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |