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장비 및 시설 기본정보
유도결합플라즈/반응성이온 식각 장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Oxford Instruments |
| 모델명 | Plasma Lab100 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 1999-10-13 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국전자통신연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C510 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | 본 장비는 Oxford사의 plasma lab 100 시리즈 장비로서 주로 GaAs 웨이퍼의 back side via hole 식각과 같이 깊은 식각 및 SiN의 저손상 식각을 위해 사용되는 장비이다. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201712/20161004160403_20150316000000189164 NFEC-2015-03-200170.jpg |
| 장비위치주소 | 한국전자통신연구원 4동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2015-03-200170 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-ETRI-00008 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |