| 보유기관명 |
광주나노기술집적센터 |
| 보유기관코드 |
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| 활용범위 |
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| 활용상태 |
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| 표준코드 |
C528 |
| 표준분류명 |
분석 |
| 시설장비 설명 |
ㅇ 원리 및 특징 N2 Blow Dryer는 50℃~80℃ 정도로 가열된 N2를 저속 회전하는 Wafer에 직접 Blowing하여 건조하는 장치이다. - 가열된 N2를 Blowing하므로 Wafer 표면에 분사하여 수분제거 효과를 동시에 얻을 수 있기 때문이다. - Turn Table의 회전수는 300 ~ 500RPM의 저속회전을 원칙으로 하며 보통 400RPM이 적당하다. |
| 장비이미지코드 |
http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201101/20110107185458.JPG |
| 장비위치주소 |
한국생산기술연구원 호남권 지역본부 |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2009-01-069255 |
| 예약방법 |
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| 카타로그 URL |
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| 메뉴얼 URL |
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| 원문 URL |
http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-kitech_ncne-00013 |
| 첨부파일 |
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