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장비 및 시설 기본정보
이온 광학 제어 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | National Instruments |
| 모델명 | NI PXIe-8133 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2013-05-15 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국표준과학연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | E100 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | Ion beam sputtering system for precision optics. Layer deposition and deposited layer milling, sequentially processed, with two ion guns. Substrate rotation for uniform deposition. Automatic distance control between ion guns and substrate. Target rotated and linearly swept, for its uniform erosion. Multilayer deposition with a low surface roughness(normally controlled below ~4A) |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201306/201306188531637.JPG |
| 장비위치주소 | 한국표준과학연구원 신소재동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2013-06-180035 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0049872 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |