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장비 및 시설 기본정보
초고진공 반응기용 챔버
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 아텍시스템 |
| 모델명 | UHV |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2010-06-21 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국과학기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C506 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | *특징 본 장비는 초고진공 상태에서 금속이나 탄소 박막을 증착할 수 있는 장비이며, 또한 아르곤, 산소, 질소 가스를 이온화 하여 이온빔을 형성하고 이를 이용한 기판 표면 처리 및 표면 나노구조 형성이 가능한 장치이다. Turbomolecular pumping(TMP)에 의한 UHV급 진공도 확보 |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201108/20110831103925.jpg |
| 장비위치주소 | 한국과학기술연구원 연구동(L0) |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2010-07-080755 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0054723 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |