| 시설장비 설명 |
1. 장치의 개요 가. 본 “Vacuum Chamber"는 150keV, 10mA 이온빔 공정을 수행하기 위한 장치이다. (이하 ”장치“ 라 한다) 나. 본 “장치”는 실험실 규모의 Pilot Plant 실험 장치로서 각 Unit(단위)별로 조합된 고 진공(High Vacuum) Chamber System 이다. 따라서 장치의 실험목적 및 특성상 사전에 충분한 기술협의를 거친 후 상세 설계 및 제작에 따른 제반공정을 진행시켜야 한다. 다. 본 “장치”의 기본 제작형식은 High Vacuum Chamber Type으로서 장치의 주요 구성은 Vacuum Chamber, Jig System, Control System, Frame, Vacuum line 시스템 등으로 이루어지며 특히 Vacuum Chamber와 Jig System부분은 지정된 진공도가 유지되어야 한다. 라. 본 “장치”는 향후 여러 목적의 실험에도 사용가능 하도록 Compact 하고 또한 이동이 편리하게 설계, 제작되어야 한다. |
