원자현미경
기관명 | ZEUS |
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장비번호 | |
제작사 | 파크시스템스 |
모델명 | NX10 |
장비사양 | |
취득일자 | 2013-06-24 |
취득금액 |
보유기관명 | 광주과학기술원 |
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보유기관코드 | |
활용범위 | |
활용상태 | |
표준코드 | A208 |
표준분류명 | |
시설장비 설명 | 교차간섭 제거를 통한 정확한 원자현미경 이미징 - 시료와 팁에 2개의 독립된 플랙셔 스캐너를 사용하여 가장 뛰어난 XYZ 스캔 선형성 - 전체 XY 스캔 범위에서 1nm 미만의 가장 우수한 평면 외 움직임 - 0.015% 미만의 Z 스캐너 선형성 - 예측형 사인 스캔 알고리즘으로 XY 스캐너 진동 감소 완전 비접촉 모드로 정확한 원자현미경 이미징 - 업계에서 가장 높은 9kHz 이상의 Z 스캐너 대역폭과 팁 속도 62mm/초 이상의 Z 서보 속도 - 비접촉 모드 이미징 시 가장 빠른 스캔 속도 - 팁 마모를 줄여 장시간 동안 고해상도로 측정 가능 - 시료 손상 또는 변형 최소화 실시료 형상기술로 정확한 원자현미경 측정 - 업계에서 가장 우수한 저 노이즈 Z 검출기로 시료 표면 형상 측정 - 업계에서 가장 우수한 0.15% 미만의 왕복 시 스캔 간격 - 열 특성이 동일한 부품으로 제작하여 시스템 표류도 및 히스테리시스 최소화 - 진동 차폐함을 통한 능동 온도 조절 NX 사용자 생산성 - 측면으로부터 팁과 시료에 폭넓게 접근하여 손쉽게 팁 교환 가능 - 사전 정렬된 팁 장착부와 특허를 획득한 직접 관찰 광학 장치로 손쉽고 직관적인 레이저 정렬 가능 - 10초 이내에 빠르게 자동으로 시료 표면에 팁 접근 - 3개의 내부 락인앰프 Q 제어 및 스프링 상수 캘리브레이션 기능을 갖춘 24비트 디지털 전자회로분석의 시간적인 제약과 샘플준비의 한계로 인해서 타 연구실 장비사용에 어려움이 많았지만 본 장비의 구매를 통해서 여러 가지 제약없이 폭 넓은 연구를 진행할 수 있을 것으로 생각되며 기본적인 AFM의 용도(표면 분석) 이외에도 추가적인 option의 구매를 통해서 본 연구실에서 다뤄지는 반도체/dielectric 물질 graphen PVDF 그리고 MoS2 등과 같은 여러 물질의 특성 파악이 가능하다. 특히 추가 구매하는 PFM의 경우 piezo 물질 연구에 반드시 필요한 d33 값 측정은 물론 dipole을 정렬하는 poling 공정을 진행할 수 있어서 piezo 물질 연구에 도움이 될 것으로 판단된다.일반적으로 AFM은 시료의 상대적의 크기를 알아내는데 적절한 기구로 인식되고 있다. 측정해야할 시료의 크기가 점점 작아지면서 시료 표면 구조와 절대적 크기를 정밀하고 반복적으로 측정하고자 할 때 AFM의 필요성이 점점 커지고 있는 실정이다. 구매하고자 하는 AFM의 경우는 상기와 같은 목적이외에 추가적인 option (c-AFM PFM)을 구매하여 다양한 용도로 사용하고자 한다. conductive AFM을 이용해서 시료 표면 특정지역의 전류와 전압 특성을 확인하여 반도체 소자의 결함을 확인하거나 응용할 수 있으며 PFM의 경우 연구실에서 연구하는 piezo 물질인 PVDF와 PZT의 d33 값 확인과 dipole들을 배열하는 poling 공정을 진행하여 여러 가지 소자에 필요한 기초 데이터뿐만 아니라 공정적용도 가능하다. |
장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201404/.thumb/20140424171722681.png |
장비위치주소 | 광주 북구 오룡동 광주과학기술원 1 광주과학기술원 금호관 지하1층 |
NFEC 등록번호 | NFEC-2013-06-180445 |
예약방법 | |
카타로그 URL | |
메뉴얼 URL | |
원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0039542 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
주제어 (키워드) |