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장비 및 시설 기본정보
임플란트시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 아텍시스템 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2004-03-23 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 재료연구소 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | B105 |
| 표준분류명 | 시험 |
| 시설장비 설명 | 본 장비는 주입하고자 하는 물질을 금속 플라즈마 상태로 만든 후 모재 표면에 고전압의 바이어스를 인가함으로써 플라즈마 중의 양이온들이 모재 표면에 충돌 주입되도록 유도하는 것이 주된 원리임. 모재 표면 주위에는 PLASMA SHEATH가 형성되며 이온돌은 모재의 모든 표면에 수직으로 충돌/입사를 일으키게 되는 것이 특징인 장비임. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/200710/20071026100911.JPG |
| 장비위치주소 | 재료연구소 본관동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2005-09-012364 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0002407 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |