| 보유기관명 |
대구경북과학기술원 |
| 보유기관코드 |
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| 활용범위 |
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| 활용상태 |
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| 표준코드 |
C502 |
| 표준분류명 |
분석 |
| 시설장비 설명 |
공동실험실동 청정시설 photo room에 설치될 기자재임 기본 소자 제작 시 패턴 형성을 위한 포토레지시트 일괄 처리 시스템임 장비활용에 따른 기대효과 도입될 기자재는 8″ wafer 및 150mm square glass까지 공정이 가능하여 우리원의 기본적인 공정 및 유관 기관의 공정수요에도 적절히 대응할 수 있음 기본적인 소자제작에 필요한 핵심적인 photo-lithography process의 standard process를 개발함에 따라 차세대 포토공정인 e-beam lithography 및 nano imprinting 기술로의 공정 개발이 기대됨 |
| 장비이미지코드 |
https://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201102/20110209171130.JPG |
| 장비위치주소 |
대구경북과학기술원 중앙기기센터 205 소자클린룸 |
| NFEC 등록번호 |
NFEC-2011-02-140141 |
| 예약방법 |
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| 카타로그 URL |
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| 메뉴얼 URL |
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| 원문 URL |
https://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-201812171097 |
| 첨부파일 |
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