- HOME
- 홈페이지 이용안내
장비 및 시설 기본정보
DC 마그네트론스퍼터링장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 아텍시스템 |
| 모델명 | 모델명 없음 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2006-09-28 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국재료연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C506 |
| 표준분류명 | 분석 |
| 시설장비 설명 | 1. Ion beam-assisted dc sputter system for release coating on precision mold 2. Equipped with three sputter guns and one ion gun 3. Multilayer deposition and codeposition available 4. Substrate heated up to optimum value in a short period using halogen lamp 5. Designed with appropriate heat protection for other parts except for substrate 6. Substrate rotation & revolution |
| 장비이미지코드 | https://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/200712/20071213172730.JPG |
| 장비위치주소 | 재료연구소 연구3동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2007-12-048887 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | https://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0012316 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |