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장비 및 시설 기본정보
나노카본 전극 미세패턴용 포토리소그래피 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 마이다스시스템 |
| 모델명 | MDA-60MS |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2014-12-16 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국전기연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C501 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 나노카본 전극소재를 활용해 다양한 전기, 전자, 광전소자 개발 및 웨어러블 스마트 디바이스, 고성능 유연전자소자 제작을 위해 미세선폭의 고해상도 패턴 형성이 필수적이며, 수 마이크론 크기의 미세 전극 형성을 위해 포토리소그래피 공정용 Mask Aligner 본 포토리소그래피 시스템은 Semi-auto 방식의 Mask Aligner와 대면적 포토레지스트(PR) 박막 형성을 위한 스핀코팅 모듈로 구성되며, 조각샘플부터 최대 6인치 시료까지 고해상도 패턴형성 공정이 가능함- 1kW mercury short lamp - 파장 350~450 nm, - 빔 크기 = 8.25in x 8.25in, - intensity 20 mW/cm2 - 6인치 웨이퍼 샘플 크기 - 1um급 고해상도 PR 패턴 형성가능 - 자동 기능: UV 조사, 레벨링, Z축 모션 - 매뉴얼 샘플 로딩 및 얼라인먼트 기능- 1um 정도 두께의 대면적 감광필름 코팅 후, 포토마스크를 통한 UV 빔 조사, PR develop, 전극 및 반도체 소재 박막 형성, PR 제거 순서로 포토리소그래피 공정이 이루어지며, 수 마이크로미터 이하의 선폭을 가지는 미세 나노카본전극 패턴을 형성 함 - 포토리소그래피 공정을 통한 나노카본기반 미세 전극 패턴형성, 고성능 유연전자소자 개발, 고집적 유연/신축 반도체 소자 개발, 미세 패턴된 반도체, 절연체, 전도체 층을 결합한 고성능/고집적 소자 및 회로 개발 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201412/.thumb/20141223101756328.jpg |
| 장비위치주소 | 경남 창원시 성산구 성주동 28-1번지 한국전기연구원 3연구동 1층 3114 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2014-12-194392 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0047014 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |