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장비 및 시설 기본정보
대면적 그래핀 패턴 장비(20~1000 N)(C51)
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | (주)아이펜 |
| 모델명 | R2R S&G 4-M001 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2014-06-30 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국화학연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C212 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 특징 및 기능 - 구축하고자 하는 장비는 본 세부과제의 연구목적인 소프트 기판에 멀티스케일 하이브리드 저온 공정 개발을 위하여 본 세부과제에서 개발된 소프트 리소그래피 공정용 장비임. - 본 기관에서 개발된 소프트 리소그래피 공정은 패턴된 PDMS 몰드를 이용하여 기판에 전사된 그래핀을 직접 패턴 혹은 전사하여 패턴된 그래핀 박막을 형성하는 공정임. - 기존에 소프트 리소그래피 공정은 핸드메이드로 제작된 PDMS 몰드를 손으로 압력을 가하여 그래핀을 패턴하였음. 이에 대면적이고 정밀한 어레이 패턴을 기존과 같이 손으로 패턴하기 어려워 압력과 속도 등의 제어가 되고 자동화된 소프트 리소그래피 공정용 장비가 필요함. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201408/2014081414246772.bmp |
| 장비위치주소 | 한국화학연구원 1연구동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2014-08-190840 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0044670 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |