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장비 및 시설 기본정보
급속 열처리 장비
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 뉴영엠테크 |
| 모델명 | RTA200H-SP1 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2005-01-01 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 나노종합기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C601 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | - Semi-Auto Process - Applied Wafer Size : Piece 4" 6" 8" - Both Side Lamp Structure - Lamp Type : Circular Type ( 9/18Zone ) - System Pressure : Atmospheric (ATM) - Standard 4 Gas Lines : N2 O2Spare - Equipment Style : Stand-Alone (On-Line Communication Method: SECS/GEM) * 구성 - Main Frame - Process Chamber 1 Chamber SCR Power Module 51ea Circular Tungsten Halogen Lamp Temp. Reading/Control by Pyrometer - Wafer Transfer Module : Semi Auto Load/Unloading - Utility Lines - Gases/ Exhaust / PCW / Air Lines - Software : System & Temperature Control SECS and GEM * 성능 - temp control range : 400~1250deg - ramp up rate : 10~80deg - temp stability : ＜±2deg - lamp type : citcular type(42 zone) - lamp life time : ＞3000hrs - RTO - RTN - RTA * 주시험 분야 Wafer anneal Silicide FormationCMOS Tr 제작 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201405/.thumb/20140512175155649.JPG |
| 장비위치주소 | 대전 유성구 어은동 대전 유성구 대학로 291 (어은동 53-3) 카이스트 부설 나노종합기술원 나노종합기술원 1층 FAB |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2007-11-047782 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0007450 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |