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장비 및 시설 기본정보
유도 결합형 플라즈마 제어를 통한 실리콘 나노 입자
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 네스트 |
| 모델명 | 유도 결합형 플라즈마 제어를 통한 실리콘 나노 입자 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2010-12-31 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국에너지기술연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | B109 |
| 표준분류명 | 생산 |
| 시설장비 설명 | 본 시스템은 유도 결합형 플라즈마를 사용하며 반응로의 형상과 안테나 형상 및 위치에 따라서 플라즈마 퍼짐현상을 최소화하여 고순도의 실리콘 나노입자를 제조한다. 본 시스템에 사용되는 모든 가스는 가스유량계를 사용하여 미세제어. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201101/20110106171551_835.jpg |
| 장비위치주소 | 한국에너지기술연구원 복합동 4층 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-01-132039 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0049003 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |