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장비 및 시설 기본정보
플라즈마 화학기상 증착기
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | Ips |
| 모델명 | TECHO-200/300M |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2008-06-20 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 경희대학교 산학협력단 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C507 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 특징 TFT 소자 제작을 위한 다양한 물질의 증착공정에 이용되며 플렉시블 디스플레이의 기재필름인 다양한 플라스틱 재료의 barrier 막 코팅 공정 및 OLED 소자의 encapsulation 성능 개선을 위한 공정에 이용된다.·구성및성능 - Stage heater temp. : Max. 600℃ - Substrate size : 150 x 150mm - Gas box : Liquid Source 용 2 Canister/1000cc - 사용 Gas : NH3 O2 Ar N2 - ALD Function 가능 - 박막형성물질 : SixNy SiOx SiNy Al2O3 등 - CSK사양 - TEOSNH3O2ArN2 Gas 사용TFT소자 제작을 위한 다양한 물질의 증착공정에 이용되며, 플렉시블 디스플레이의 기재필름인 다양한 플라스틱 재료의 Barrier막 코팅 공정 및 OLED 소자의 Encapsulation 성능 개선을 위한 공정에 이용된다. |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201309/.thumb/20130910102145227.jpg |
| 장비위치주소 | 경기도 용인시 기흥구 덕영대로 1732 (서천동) 멀티미디어관 B1 경희대학교 산학협력단 멀티미디어관 지하1층 108 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2010-12-086123 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0018234 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |