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장비 및 시설 기본정보
진공내 고온가열 시스템
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 에피온 |
| 모델명 | HTVS1 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2010-11-18 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 한국전자통신연구원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C601 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 샘플을 진공상태에서 고온가열처리하는 장비로 약 10-5 torr 영역에서1000 ℃까지 허용가능하며, 샘플의 구성성분에 따라 가열온도를 조절하여야함. 주로 X선 튜브의 진공 브레이징공정에 사용되며, 부속품을 교체하여 고온배기가열환경에서 전계방출측정을 할 수 있음. |
| 장비이미지코드 | http://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201102/20110207175139.jpg |
| 장비위치주소 | 한국전자통신연구원 4동 |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2011-02-139519 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/resv/equip/read/Z-NTIS-0050735 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |