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장비 및 시설 기본정보
금속세정장치
장비 개요
| 기관명 | ZEUS |
|---|---|
| 장비번호 | |
| 제작사 | 지에스인더스트리 |
| 모델명 | GMW-05 |
| 장비사양 | |
| 취득일자 | 2007-12-27 |
| 취득금액 |
보유기관 및 이용정보
| 보유기관명 | 나노종합기술원 |
|---|---|
| 보유기관코드 | |
| 활용범위 | |
| 활용상태 | |
| 표준코드 | C502 |
| 표준분류명 | |
| 시설장비 설명 | 웨이퍼 세정 장치 - SPM (3:1 H2SO4:H2O2 Ratio 120+ / -2 deg) - APM (1:5:50 NH4OH:H2O2:Dl Ratio 50 deg) - Solvent - Metal Silicide Removal - Metal Etch Clean General Information - 4”/6”/8” wafer available - Metal Silicide 노출 Clean - Metal Etch성 Polymer 및 Residue Clean - 화학약액을 이용한 웨이퍼의 세정 및 습식식각 진행을 진행할 수 있음 - 식각공정 및 이온주입공정후 세정 |
| 장비이미지코드 | http://nfec.ntis.go.kr/storage/images/equip/photo/201108/.thumb/20110830113019.JPG |
| 장비위치주소 | 대전 유성구 어은동 대전 유성구 대학로 291 (어은동 53-3) 카이스트 부설 나노종합기술원 나노종합기술원 1층 FAB |
| NFEC 등록번호 | NFEC-2009-10-074874 |
| 예약방법 | |
| 카타로그 URL | |
| 메뉴얼 URL | |
| 원문 URL | http://www.zeus.go.kr/equip/read?equipId=Z-NTIS-0014159 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| 주제어 (키워드) |